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公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I585951專利

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:

記憶體結構

2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:106/06/01

3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$ 54,600

4.其他應敘明事項:

一種記憶體結構，包括基底、選擇閘極結構、第一重摻雜區、第二重摻雜區及浮

置接觸窗。選擇閘極結構設置於基底上。第一重摻雜區與第二重摻雜區分別設置

於選擇閘極結構一側與另一側的基底中。浮置接觸窗設置於第一重摻雜區與選擇

閘極結構之間的基底上，且與基底相互隔離。

<摘錄公開資訊觀測站>

2017/6/30【公告本公司取得美國專利局核發US 9640272專利】
2017/6/30【公告本公司取得美國專利局核發US 9653142專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I585510專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I585951專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581268專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581373專利】
2017/6/29【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581262專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581213專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581413專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581441專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581428專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I580984專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581072專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581407專利】
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