1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:
曝光裝置與曝光方法
2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:106/05/01
3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本: NT$ 47,600
4.其他應敘明事項:
一種曝光裝置,包括晶圓承載台與光罩承載台。光罩承載台位於晶圓承載台上方,
且具有多個光罩承載區。
<摘錄公開資訊觀測站>