未上市  

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:

曝光機台對準光源裝置內的模組作動監控方法及監控系統

2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:106/02/21

3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$ 58,200

4.其他應敘明事項:

一種曝光機台對準光源裝置內的模組作動監控方法，包括下列步驟。提供一對準

光源裝置。對準光源裝置包括至少一模組。藉由非接觸式位置量測法量測模組的

絕對偏移值。判斷此絕對偏移值是否超過容許範圍。當所量測的絕對偏移值超過

容許範圍時，產生一異常訊號。

<摘錄公開資訊觀測站>