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公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581072專利

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:曝光裝置與曝光方法2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:106/05/013.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本: NT$ 47,6004.其他應敘明事項:一種曝光裝置，包括晶圓承載台與光罩承載台。光罩承載台位於晶圓承載台上方，且具有多個光罩承載區。<摘錄公開資訊觀測站>

2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581441專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581428專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I580984專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581072專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I581407專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I585512專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I585767專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I585768專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I585772專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I585795專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I585924專利】
2017/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I585323專利】
2017/6/29【產能調配 可望更有彈性】
2017/6/29【大陸12吋廠 明年Q2量產】

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