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公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I639884專利

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:

相移式光罩及其製作方法

2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:107/11/01

3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$ 73,000

4.其他應敘明事項:

本發明提供一種相移式光罩，用於在曝光製程中轉移一佈局圖。相移式光罩包括

一基板與一圖案化相移層。圖案化相移層設置於基板上並具有至少一元件圖案開

口與複數個虛設圖案開口，元件圖案開口與虛設圖案開口暴露出基板表面，且虛

設圖案開口環設於元件圖案開口的周圍。圖案化相移層具有一預定厚度，使得曝

光製程中通過圖案化相移層之曝光光束與通過元件圖案開口或者虛設圖案開口之

曝光光束相位差為180度，並且圖案化相移層的光線穿透率為100%。

<摘錄公開資訊觀測站>

2018/12/28【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I639886專利】
2018/12/28【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I639847專利】
2018/12/28【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I645554專利】
2018/12/28【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I639884專利】
2018/12/28【力晶結盟法商 速效運算晶片將問世】
2018/12/17【幸福縣市首長將現身分享經驗】
2018/12/17【DRAM新需求 靠AI、5G帶動】
2018/11/30【台廠看市況 DRAM相對穩定】
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2018/11/28【產業大咖看淡短期景氣】
2018/9/28【公告本公司取得美國專利局核發US 10048717專利】
2018/9/28【公告本公司取得中華人民共和國國家知識產權局核發 CN 2991269專】
2018/9/28【公告本公司取得中華人民共和國國家知識產權局核發 CN 3053769專】
2018/9/28【公告本公司取得中華人民共和國國家知識產權局核發 CN 2987264專】
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