1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:
光罩及光罩承載平台的維護方法
2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:107/11/01
3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$ 103,280
4.其他應敘明事項:
本發明提供一種光罩,其可置放於曝光裝置中的光罩承載平台上,此光罩包括一
基板以及一反射結構。基板包括一主表面與至少一側壁,且主表面與側壁相接,
其中主表面包括一圖案區以及一周邊區,周邊區設置於圖案區的一外側。反射結
構至少設置於側壁表面或設置於主表面之周邊區。
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