1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:
製程控制方法與製程控制系統
2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:107/01/09
3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$ 210,926
4.其他應敘明事項:
一種製程控制方法,適用於對批次的多個晶圓進行沉積製程,包括:根據機
台的歷史資訊與批次的產品資訊來決定批次的晶圓的擺放位置;根據批次的
晶圓的擺放位置與機台的歷史資訊來求出各擺放位置的目標值;根據機台的
歷史資訊、批次的產品資訊以及各擺放位置的目標值來求出製程參數;以及
根據批次的晶圓的擺放位置與製程參數進行沉積製程。
<摘錄公開資訊觀測站>