未上市  

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:

半導體元件

2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:107/02/21

3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$ 73,600

4.其他應敘明事項:

本發明提供一種半導體元件，其包括一基底、二摻雜區、一閘極以及一側壁子。

基底包括一主動區，且摻雜區設置於基底之主動區內。閘極設置於基底表面並位

於主動區內，在平行於基底表面之第一方向上，閘極位於兩摻雜區之間，且閘極

內包括複數個開孔。一部分之側壁子覆蓋閘極之側壁，而另一部分之側壁子填入

閘極之開孔中。

<摘錄公開資訊觀測站>