未上市  

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:

結構上的光阻圖案製程

2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:106/07/21

3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本: NT$ 50,600

4.其他應敘明事項:

一種結構上的光阻圖案製程，包括：提供基底，此基底包括第一區以及多個第二

區，其中第二區位於第一區的相對兩側，且多個突起圖案形成於基底上；於第一

區上形成光阻圖案，其中當突起圖案至少位於第一區上且與待形成的光阻圖案的

位置重疊時，在形成光阻圖案之前，移除突起圖案。

<摘錄公開資訊觀測站>