未上市  

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:

接觸窗的形成方法

2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:104/02/11

3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$58,400

4.其他應敘明事項:

一種接觸窗的形成方法包括以下步驟：提供基底；形成圖案化的非結晶碳層或旋

塗式塗布材料層，其中非結晶碳層或旋塗式塗布材料層的兩側露出基底的表面；

在基底上形成層間介電層；移除層間介電層的一部分以露出經圖案化的非結晶碳

層或旋塗式塗布材料層；移除經圖案化的非結晶碳層或旋塗式塗布材料層而形成

開口；以及對開口填充導電材料而形成接觸窗。

<摘錄公開資訊觀測站>