未上市  

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:

接觸窗開口的形成方法

2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:104/02/11

3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$56,800

4.其他應敘明事項:

一種接觸窗開口的形成方法，包括下列步驟。首先，提供基底，基底包括密集區

與獨立區。接著，於基底上形成材料層。然後，於密集區中的材料層上形成多個

犧牲圖案，且於相鄰兩個犧牲圖案之間具有第一開口。接下來，於各犧牲圖案兩

側分別形成間隙壁，且間隙壁彼此分離設置。之後，移除犧牲圖案，而於相鄰兩

個間隙壁之間形成第二開口。再者，形成填滿第二開口的平坦層。隨後，於平坦

層中形成第一狹縫，第一狹縫暴露出位於第二開口下方的部份材料層。繼之，移

除由第一狹縫所暴露出的部份材料層，而在材料層中形成多個第三開口。

<摘錄公開資訊觀測站>