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1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:
動態隨機存取記憶體的電容器下電極的製造方法
2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:103/10/29
3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$309,190
4.其他應敘明事項:
一種動態隨機存取記憶體的電容器下電極的製造方法包括下列步驟。提供具有記憶胞
區的基底。於基底的記憶胞區上形成多晶矽模板層。於多晶矽模板層上形成支撐層。
形成穿過支撐層、多晶矽模板層的多個開孔。至少於開孔所暴露的多晶矽模板層上形
成一襯層(liner layer)。於基底上形成實質上共形的導電層。移除支撐層上的導電
層，而形成多個電容器下電極。利用多晶矽模板層，可以製造出外型輪廓良好(側向
蝕刻少)的開孔，因此可以縮小元件尺寸。
<摘錄公開資訊觀測站>