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需求強勁 汎銓擴廠設備升級

  汎銓科技因應半導體客戶未來幾年強勁需求,展開擴廠計畫,已新增200坪廠地,將建置最先進的材料分析檢測設備,積極邁入16nm及以下製程。
  汎銓專注於材枓分析與IC電路修補,長期為半導體大廠在尖端製程技術研發與分析的策略夥伴,近年營業成長幅度約二成以上,除了晶圓代工大廠,IC Design House、半導體設備商及LED產業也是重要客群。
  該公司表示,半導體高階製程朝向10奈米邁進,晶圓廠已展開龐大的擴廠與研發投資,因應半導體產業世代進步演進與分析服務的需求,汎銓在機台設備及人員技術經驗方面已做好萬全的準備。
  汎銓近年引進一系列全球最先進的材料分析機台,包括Dual Beam FIB 450S(雙粒子束聚焦式離子束顯微切割儀)、高對比TEM(穿透式電子顯微鏡)、高解析度SEM(掃描式電子顯微鏡,0.9nm@1KV) 及高解析TEM(點解析0.19nm@200KV)等機台均超越同業,可提供16nm以下先進製程的分析;最先進的低角度背像電子(LaBe)影像技術,可供超低電壓之材料的表面對比,以及高量子效應的成分分析(EDS)先進偵測器提高Mapping速度與空間解析度達次微米(SEM<1um)及次奈米(TEM<1nm)水準。
  在電性故障分析方面,則引進OBIRCH最先進的數位Lock-in技術,提升訊號對雜訊比,增加缺陷偵測成功率及定位精準度。(翁永全)<擷錄經濟>

2014/9/3【汎銓專精材料分析 建置先進TEM設備
2014/3/21【汎銓 完成20奈米IC電路修補
2013/9/6【汎銓TEM分析能力 與世界級實驗室同一水準服務技術及時效領先 成
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2012/9/5【汎銓 半導體材料分析專家
2012/6/19【汎銓科技 強化專業領先同業
2012/3/6【汎銓專注先進製程 檢測修補技術領先同業
2011/10/5【汎銓 專精材枓分析與 電路修補
2011/9/28【汎銓 符合先進製程分析需求
2011/9/8【汎銓科技專注材料分析與電路修補
2011/9/7【專精材料分析及電路修補 汎銓科技 IC設計健診專家
2011/6/14【汎銓 材料分析新成果展場亮相
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