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1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:圖案化方法2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:107/10/263.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$ 65,8764.其他應敘明事項:一種圖案化方法。提供材料層。於材料層上形成依序包括第一罩幕層與第一光阻層的多個罩幕結構。於材料層上共形地形成覆蓋罩幕結構的第二罩幕層。於罩幕結構間形成第一犧牲層。移除部份第二罩幕層而暴露第一光阻層，以於罩幕結構間形成第一U型罩幕層。移除第一光阻層與第一犧牲層。於材料層上共形地形成具有第一表面與低於第一表面的第二表面的第三罩幕層。於第三罩幕層的第二表面上形成第二犧牲層。移除部份第三罩幕層而暴露第一U型罩幕層的突出部，以形成第二U型罩幕層。以第二U型罩幕層的突出部為罩幕，對材料層圖案化。

<摘錄公開資訊觀測站>

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