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1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:三維記憶體的陣列結構及其製造方法2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期: 106/11/103.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$ 72,2864.其他應敘明事項:一種三維記憶體的陣列結構,包括:堆疊結構,為由介電層與第一導電層交錯堆疊而成的結構,堆疊結構具有孔洞貫穿堆疊結構的各層,且孔洞於介電層與第一導電層處分別具有不同的孔徑;第二導電層,設置於堆疊結構中的孔洞;以及資料儲存層,設置於堆疊結構與第二導電層之間。<摘錄公開資訊觀測站>

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