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公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I550362專利

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:曝光機台的遮光裝置2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:105/09/213.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$ 51,2004.其他應敘明事項:一種曝光機台的遮光裝置,包括主遮光機構及輔助遮光機構。主遮光機構,設置於光行進路徑上。輔助遮光機構設置於光行進路線上且位於主遮光機構的一側。其中,由主遮光機構與輔助遮光機構所形成的曝光開口的形狀對應於晶圓上的曝光區域的形狀。<摘錄公開資訊觀測站>

2016/9/29【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I541751專利
2016/9/29【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I548000專利
2016/9/29【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I550749專利
2016/9/29【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I550362專利
2016/9/29【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I550769專利
2016/9/29【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I542055專利
2016/9/29【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I550697專利
2016/9/29【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I547772專利
2016/9/29【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I541628專利
2016/9/1【陸晶圓代工大餅 三星搶食
2016/8/31【兩岸產業合作添亮點 5G 智慧製造9月簽MOU
2016/8/5【檢驗基本面 科技股震盪加劇
2016/6/30【公告本公司取得美國專利局核發US 9318703專利
2016/6/30【公告本公司取得中華人民共和國國家知識產權局核發 CN 2044370專

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