1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:
圖案化方法
2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:105/10/21
3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本: NT$ 55,200
4.其他應敘明事項:
一種圖案化方法。提供材料層。於材料層上形成依序包括第一罩幕層與第一光阻層的
多個罩幕結構。於材料層上共形地形成覆蓋罩幕結構的第二罩幕層。於罩幕結構間形
成第一犧牲層。移除部份第二罩幕層而暴露第一光阻層,以於罩幕結構間形成第一U
型罩幕層。移除第一光阻層與第一犧牲層。於材料層上共形地形成具有第一表面與低
於第一表面的第二表面的第三罩幕層。於第三罩幕層的第二表面上形成第二犧牲層。
移除部份第三罩幕層而暴露第一U型罩幕層的突出部,以形成第二U型罩幕層。以第二
U型罩幕層的突出部為罩幕,對材料層圖案化。
<摘錄公開資訊觀測站>