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1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:

穿透式電子顯微鏡試片的製備方法

2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:104/11/01

3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$41,200

4.其他應敘明事項:

一種穿透式電子顯微鏡試片的製備方法，包括下列步驟。對觀察對象進行第一薄

化處理，而在觀察對象的預定觀察區中形成具有耐化學處理的厚度的穿透式電子

顯微鏡試片。在室溫下對穿透式電子顯微鏡試片進行化學處理。對經化學處理的

穿透式電子顯微鏡試片進行第二薄化處理，使穿透式電子顯微鏡試片具有供穿透

式電子顯微鏡進行觀察的厚度。從觀察對象中取出穿透式電子顯微鏡試片。

<摘錄公開資訊觀測站>

2015/12/31【公告本公司取得中華人民共和國國家知識產權局核發 CN 1838469專】
2015/12/31【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I506768專利】
2015/12/31【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I506702專利】
2015/12/31【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I506262專利】
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