未上市  

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:

一種半導體線路製程

2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:104/06/11

3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$69,000

4.其他應敘明事項:

本發明提出了一種用以形成特定圖形特徵的半導體製程，其步驟包含：在一基底上形成

一目標層、一硬遮罩層、以及複數個等間隔排列的內核體，於該些內核體的側壁形成間

隙壁體，去除該些內核體使得該些間隙壁體在該硬遮罩層上呈間隔排列，以該些間隙壁

體為遮罩圖形化該硬遮罩層，去除一預定區域外的硬遮罩體，分別在該預定區域最兩側

的數個該硬遮罩體上覆蓋一光阻，最後，以該光阻與剩餘的硬遮罩體為遮罩圖形化該目

標層。

<摘錄公開資訊觀測站>