未上市  

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:

立體垂直式記憶體的製作方法

2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:104/06/11

3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$72,100

4.其他應敘明事項:

本發明提出了一種新穎的立體垂直式記憶體製作方法，其步驟包含將由多個絕緣介層

與犧牲介層所構成的一多層結構分隔為一第一多層結構與一第二多層結構、將多層結

構中的犧牲介層替換為金屬介層、以及分別在兩多層結構中製作出通道結構。

<摘錄公開資訊觀測站>