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公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I473205專利

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:接觸窗開口的形成方法2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:104/02/113.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$56,8004.其他應敘明事項:一種接觸窗開口的形成方法,包括下列步驟。首先,提供基底,基底包括密集區與獨立區。接著,於基底上形成材料層。然後,於密集區中的材料層上形成多個犧牲圖案,且於相鄰兩個犧牲圖案之間具有第一開口。接下來,於各犧牲圖案兩側分別形成間隙壁,且間隙壁彼此分離設置。之後,移除犧牲圖案,而於相鄰兩個間隙壁之間形成第二開口。再者,形成填滿第二開口的平坦層。隨後,於平坦層中形成第一狹縫,第一狹縫暴露出位於第二開口下方的部份材料層。繼之,移除由第一狹縫所暴露出的部份材料層,而在材料層中形成多個第三開口。<摘錄公開資訊觀測站>

2015/4/2【公告本公司取得日本專利局核發JP 5678151專利
2015/4/2【公告本公司取得美國專利局核發US 8921819專利
2015/4/2【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I473262專利
2015/4/2【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I473205專利
2015/4/2【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I473206專利
2015/4/2【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I469323專利
2015/3/17【超額認購比率超過3成 力晶200億聯貸 11家國銀熱捧
2015/3/17【華亞科120億聯貸 首創三級制浮動利率
2015/3/16【陸半導體基金 砸6.4億美元收購矽成
2015/1/26【脫困 力晶將組150億聯貸案
2015/1/13【黃崇仁內線交易案 無罪
2015/1/13【力晶內線案 黃崇仁無罪確定
2014/12/31【公告本公司取得美國專利局核發US 8883636專利
2014/12/31【公告本公司取得美國專利局核發US 8846485專利

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