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公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I530987專利

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:

圖案形成方法

2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:105/04/21

3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$41,200

4.其他應敘明事項:

一種圖案形成方法，包括下列步驟。提供晶圓，晶圓包括多個晶圓內部晶粒與多

個晶圓邊緣晶粒。在各晶圓內部晶粒上形成第一圖案，且在各晶圓邊緣晶粒上形

成第二圖案，其中第一圖案的形成方法包括進行至少兩次曝光製程，第二圖案的

形成方法包括進行上述至少兩次曝光製程中的至少一次，且形成第二圖案所進行

的曝光製程次數少於形成第一圖案所進行的曝光製程次數。

<摘錄公開資訊觀測站>

2016/8/5【檢驗基本面 科技股震盪加劇 】
2016/6/30【公告本公司取得美國專利局核發US 9318703專利】
2016/6/30【公告本公司取得中華人民共和國國家知識產權局核發 CN 2044370專】
2016/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I530987專利】
2016/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I530702專利】
2016/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I530809專利】
2016/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I531100專利】
2016/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I531007專利】
2016/6/30【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I531032專利】
2016/6/22【股東會決議通過解除董事競業禁止之限制】
2016/4/26【愛普今年拚賺一股本】
2016/4/26【 力晶轉投資 愛普5月將上市 】
2016/4/20【公告子公司Global Powertec CO., LTD.減資事宜】
2016/3/28【公告本公司取得經濟部智慧財產局核發TW I525626專利】
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