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瑞晶明年資本支出縮水至40億元

台日合資的DRAM大廠瑞晶宣布2011年資本支出僅新台幣40億元,相較於2010年的資本支出大幅縮水近70%,瑞晶指出,2011年暫訂轉進旗下4萬片產能到30奈米製程,再觀察景氣和報價狀況決定是否追加;此外,瑞晶也將在12月底前將旗下8萬片12吋晶圓產能都轉進45奈米製程,預計2Gb晶片到2011年2月起可大量產出,持續將成本壓低至1.5~1.6美元,力抗DDR3報價下跌。
瑞晶13日召開董事會,一併通過2010年資本支出的追加案,和2011年的資本支出預算,以及與爾必達(Elpida)簽訂45奈米技術合約;其中在 2010年資本支出方面,原本瑞晶規劃的資本支出為新台幣120億元,追加至128億元,主要花費都集中在轉進45奈米製程的研發和機器設備採購上。
瑞晶預計2011年的資本支出為新台幣40億元,相較於2010年新台幣128億元的費用,縮水將近70%,其中的30億元資本支出是用在將旗下12吋晶圓廠中的4萬片產能轉進30奈米製程,另外是研發費用約佔9億元,剩下為其他支出。
瑞晶2011年資本支出大幅縮水,主要是因為轉進45/30奈米製程需要的浸潤式微米曝光機台(Immersion Scanner)的採購都在2010年完成,目前手上已有5台浸潤式微米曝光機台,會是台灣DRAM廠中最快轉進40奈米製程的業者。
瑞晶表示,2011年僅暫訂轉進4萬片產能到30奈米製程,主要是要視DRAM產業景氣和價格的走勢,才會決定是否擴大轉進數量,以利手上資金做最好的應用;再者,30奈米製程與45奈米製程相較,每片晶圓數量預計可再增加35%。
事實上,瑞晶45奈米製程進度大幅提前,預計2010年12月底之前即可100%轉進45奈米製程,目前瑞晶12吋晶圓廠產能約8萬片,12月上旬45奈米製程投片量已達6萬片,預計下旬可以8萬片100%投入。
值得注意的是,瑞晶12月100%投入8萬片45奈米製程,預計全產出時程會是2011年2月,屆時瑞晶2Gb晶片成本可由目前的1.8~2美元降低至1.5~1.6美元,不但可力抗報價跌勢,更可拉大獲利空間。
近期DDR3價格開始止穩,雖然2Gb DDR3低價有到1.8美元,但平均報價仍維持在2美元附近;不過12月上旬合約價仍是反映現貨價格,持續擴大下跌9~11%,也反應部分系統客戶不願意在年底盤點前備貨。
業者認為,DDR3報價經過數月的巨幅下跌,寄望能逐步開始止跌回穩,銜接2011年農曆過年前的補貨潮,屆時可緩和台系DRAM廠的營運和資金壓力。<摘錄電子>

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